產品概要： 薄膜表面或界面的反射光會與從基底的反射光相干涉，干涉的發生與膜厚及折光系數等有關，因此可通過計算得到薄膜的厚度。光干涉法是一種無損、精確且快速的光學薄膜厚度測量技術，我們的薄膜測量系統采用光干涉原理測量薄膜厚度。 該產品是一款價格適中、功能強大的膜厚測量儀器。近幾年，每年的全球銷售量都超過200臺。根據型號不同，測量范圍可以從10nm到250um，它最高可以同時測量4個膜層中的3個膜層厚度（其中一層為基底材料）。該產品可應用于在線膜厚測量，測氧化物、SiNx、感光保護膜和半導體膜，也可以用來測量鍍在鋼、鋁、銅、陶瓷和塑料等上的粗糙膜層。