美國埃米Angstrom Dep III原子層沉積系統，包括：傳統的熱原子層沉積系統(TALD)、等離子增強原子層沉積系統(PEALD)、粉末樣品的原子層沉積系統(Power-ALD)。

電子束蒸發系統是化合物半導體器件制作中的一種重要工藝技術。它是在高真空狀態下由電子束加熱坩堝中的金屬，使其熔融后蒸發到所需基片上形成金屬膜。可蒸發很多難熔金屬或者蒸汽壓低的金屬材料，包括Ta, W, Mo, Rh, C, B, Pt, Al2O3, ZnO, Pr2O3…VS5電子束蒸發鍍膜機是英國牛津真空公司生產，臺式設計、軟件自動操控、高性價比，非常適合實驗室科研使用。

VS5電阻式熱蒸發鍍膜機是英國牛津真空公司生產，臺式設計、軟件自動操控、高性價比，非常適合實驗室科研使用。 通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為熱蒸發鍍膜，熱蒸發鍍膜技術是歷史最悠久的PVD鍍膜技術之一。熱蒸發鍍膜機一般主要用于蒸發Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。以下為蒸發鍍膜設備的示意圖。